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豊田中研GaNパワーデバイス産学協同研究部門

窒化ガリウムを用いたパワーデバイスの実用化を目指し、下記の観点から研究を進めます。


①不純物や点欠陥を高精度に制御するエピタキシャル成長技術
②ゲート絶縁膜・MOS界面技術
③低ダメージ加工、イオン注入などプロセス技術
④超低損失化を実現するデバイス設計技術