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特徴

(1) GaNに特化したサブミクロン加工プロセスライン
結晶成長から電極形成までアンダーワンルーフでGaNパワーデバイスをスループロセス
i 線ステッパをはじめとした、サブミクロンに対応した充実した加工設備
専任の技術員による運営管理、プロセス受託
多様な料金設定による設備共用システム

 

(2)ターゲットデバイス
GaN on GaN 縦型パワーデバイス
GaN 系光デバイス
AlGaN/GaN 横型HEMT デバイス
窒化物半導体 未来デバイス