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キオクシア奨励研究 2019年度 プロセス部門 優秀研究賞

受賞日 2020/11/16
受賞者 中塚理(教授)
研究題目 界面ナノ構造制御による超低抵抗金属/Ⅳ族半導体コンタクト形成技術