2020.11.16 キオクシア奨励研究 2019年度 プロセス部門 優秀研究賞 受賞日 2020/11/16 受賞者 中塚理(教授) 研究題目 界面ナノ構造制御による超低抵抗金属/Ⅳ族半導体コンタクト形成技術