| 受賞日 | 2021/12/3 |
|---|---|
| 賞名 | 日本結晶成長学会ナノ構造・エピタキシャル成長分科会発表奨励賞 |
| 受賞者 | 大西 一生（天野研究室・D3） |
| 研究課題 | n型GaNドリフト層の表面平坦化に向けたハライド気相成長条件の検討 |
| 関連HP | https://sites.google.com/view/nanoepi/award |
大西 一生さん（天野研究室・D3）が日本結晶成長学会ナノ構造・エピタキシャル成長分科会発表奨励賞を受賞
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